1.工業純水設備工藝流程
目前純水設備工藝大都采用膜法工藝(反滲透)，使純水制備從傳統的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器等發生了一次革命，從此進入了一個無需再生化學品的時代。高科技膜法制備出來的工業純水，其純度可達到18MΩ?CM，且系統穩定。原水箱→原水泵→多介質過濾器→活性碳過濾器→軟水器(視具體水質好壞)→保安過濾器→一級反滲透→生產線用水點。
2.純水設備的應用領域
微電子行業包括了電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、單晶硅、多晶硅生產、電子新材料生產等生產工藝，都需要工業純水。
電子、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。
在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個晶體管需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致報廢、次品。在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低，III族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20%~50%)會使P型硅片上的局部區域變化為N型硅而導致器件性能變壞。水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。因此水的質量相當重要。采用反滲透加EDI的脫鹽工藝，可以達到超純水標準。
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